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光刻胶过滤
光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶， 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致，同时严控过滤产品的金属离子析出。最强耐腐蚀全氟滤芯采用进口PTFE膜，进口PTFE支撑层，全氟骨架经过特殊结构设计而制成适用于光刻胶的终端过滤。
主要特点
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天然疏水性、耐腐蚀
广泛的化学相容性
绝对孔径确保有效过滤
每支滤芯通过完整性检测
应用领域：
光刻工艺
0571-87022016 产品描述
| 材料结构 | 操作条件 | 绝对过滤精度(um) | |||
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滤材: 疏水聚四氟乙烯膜 内芯: 聚丙烯 外罩: 聚丙烯 端盖: 聚丙烯 垫片/O型圈: 硅橡胶、三元乙丙、氟橡胶、包四氟 密封技术: 热熔焊接 |
工作温度：≤80℃ 可耐最大压差：4 bar (21℃)／2.4bar (80℃) 灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌 |
0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20 有效过滤面积 ≥0.65 m2/10〞 |
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| 生物安全性 | 滤芯尺寸 | 完整性测试 | |||
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内毒素：≤0.25EU/ml 溶出物：≤30mg/10〞 |
外径: 68mm 长度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞 |
起泡点测试（60%IPA）） 0.10um≥4.0bar 0.22um≥3.4bar 0.45um≥2.3bar |
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| 应用领域 |
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电子行业：电子级各类酸、碱、有机试剂过滤。 制药行业：熔媒除菌过滤、腐蚀性、强氧化性液体、有机试剂等过滤。 |
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