欢迎光临恒水过滤器材有限公司官方网站!
电话: 0571-87022016
光刻胶过滤
光刻胶过滤
光刻胶过滤
光刻胶过滤
光刻胶过滤
光刻胶过滤
光刻胶过滤

光刻胶过滤

光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶, 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致,同时严控过滤产品的金属离子析出。最强耐腐蚀全氟滤芯采用进口PTFE膜,进口PTFE支撑层,全氟骨架经过特殊结构设计而制成适用于光刻胶的终端过滤。
主要特点
    天然疏水性、耐腐蚀
    广泛的化学相容性
    绝对孔径确保有效过滤
    每支滤芯通过完整性检测
应用领域: 光刻工艺
0571-87022016
产品描述
材料结构 操作条件 绝对过滤精度(um)
滤材: 疏水聚四氟乙烯膜
内芯: 聚丙烯
外罩: 聚丙烯
端盖: 聚丙烯
垫片/O型圈: 硅橡胶、三元乙丙、氟橡胶、包四氟
密封技术: 热熔焊接
工作温度:≤80℃
可耐最大压差:4 bar (21℃)/2.4bar (80℃)
灭菌方法:121℃/30min蒸汽灭菌

0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20

有效过滤面积

≥0.65 m2/10〞

生物安全性 滤芯尺寸 完整性测试
内毒素:≤0.25EU/ml
溶出物:≤30mg/10〞
外径: 68mm
长度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞
起泡点测试(60%IPA))
0.10um≥4.0bar
0.22um≥3.4bar
0.45um≥2.3bar
应用领域

电子行业:电子级各类酸、碱、有机试剂过滤。
制药行业:熔媒除菌过滤、腐蚀性、强氧化性液体、有机试剂等过滤。