半导体制造过滤

半导体制造工艺复杂严苛，涵盖光刻、精密切割和研磨等各种复杂工艺，涉及光刻胶、研磨液、显影液、蚀刻液等的过滤。囊式过滤器体积小、过滤介质损失小，一体式、安装方便节约使用成本的特点。广泛应用于半导体制造过滤。

主要特点

囊式过滤器体积小

过滤介质损失小

一体式、安装方便

节约使用成本

应用领域：微电子化工

0571-87022016

产品描述

料结构	操作条件	绝对过滤精度(um)
滤材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE 壳体: 聚丙烯密封技术: 热熔焊接	工作温度：≤60℃ 可耐最大压差：4 bar (21℃) 灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌	0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00 有效过滤面积 0.11㎡/0.22㎡
进出口方式	滤芯尺寸
螺纹式：1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT 插管式：1/4"宝塔接头、3/8"宝塔接头、1/2"宝塔接头快装式：0.5"卡盘接头、1"卡盘接头	长度（内芯）: 2.5"、5 "
应用领域
制药行业：小流量液体过滤，溶剂样品过滤。电子行业：光学镜片单体过滤，锂电池电解液过滤，研磨液过滤，油墨过滤等。

产品分类

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