研磨抛光液过滤

研磨抛光液可分为研磨液和抛光液。一般研磨液用于粗磨，抛光液用于精密磨削。半导体行业CMP工艺对抛光液杂质要求苛刻，抛光液所含的化学颗粒是非常细的，达到纳米粒径，研磨液多为微米粒径。研磨液和抛光液整个传输和应用流程都会用到滤芯进行过滤，主要是对研磨液和抛光液中的颗粒进行过滤除杂。

主要特点

囊式过滤器体积小

过滤介质损失小

一体式、安装方便节约使用成本

应用领域：微电子光刻工艺化工 CMP工艺小量试剂

0571-87022016

产品描述

材料结构	操作条件	绝对过滤精度(um)
滤材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE 壳体: 聚丙烯密封技术: 热熔焊接	工作温度：≤60℃ 可耐最大压差：4 bar (21℃) 灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌	0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00 有效过滤面积 0.11㎡/0.22㎡
进出口方式	滤芯尺寸
螺纹式：1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT 插管式：1/4"宝塔接头、3/8"宝塔接头、1/2"宝塔接头快装式：0.5"卡盘接头、1"卡盘接头	长度（内芯）: 2.5"、5 "
应用领域
电子行业：研磨液过滤，抛光液过滤，光刻胶过滤，电子化学品过滤。制药行业：小流量液体过滤，溶剂样品过滤。

产品分类

认证资料