CMP是指半导体产业中晶圆生产的研磨工艺,它使用研磨工具与研磨抛光液将晶圆变得光滑，研磨抛光液的浆料颗粒从30-200μm广泛分布，按标准应该把浆料颗粒控制在0.5μm以内。如果不过滤掉大于0.5μm的颗粒将导致晶圆表面被刮伤，于是浆料过滤便成为该工艺的关键点。CMP过滤滤芯帮助客户在CMP过滤中去除掉影响产品的颗粒，放行有效颗粒。
光刻工艺是微图形转移工艺，随着半导体加工的线宽越来越小，光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致，不光对颗粒严格控制，严控过滤产品的金属离子析出，这对滤芯生产制造提出了特别高的要求。过滤给半导体客户提供半导体级别的全氟滤芯，超低的金属析出溶出确保了产品的洁净。
厂务系统过滤
半导体制造过程中，厂务系统为FAB提供生产制造用洁净的工艺气体，超纯水，超净电子化学品。大批量，长时间不间断的供应，对过滤的稳定性提出了很高的要求。恒水过滤为厂务系统过滤提供专有的过滤产品。大流量滤芯的产品，全氟耐腐蚀产品，以及高精度高效率过滤产品，为厂务系统的安全供应提供了服务。
超净电子化学品作为半导体生产制造的关键材料，在半导体的生产过程中起着关键的作用，各种不同特性的电子化学品对过滤产品的要求各有不同，对过滤产品的洁净度，低析出有着严苛的要求。恒水过滤采用行业先进的设备，对过滤产品进行严格的洁净度的管控，低析出，低金属离子产品，为半导体行业的稳定、安全、可靠生产提供了帮助。
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